ZEITのコーティングの技術センターは蘇州PECVDプロセス開発計画を引き受けた。プロセス開発および技術の躍進の月半分のの後で、ZEITはSiNxのPECVDプロセスを完了し、SiO2フィルムは、表面の均等性および各層の均等性の索引に達した。
このプロジェクトによって、ZEITは、急速な、安定した反作用圧力一致する、RFのようなPECVD装置の基幹技術の自身の特徴を、気流の均一配分形作り、また塵の汚染、模造されたフィルムの、等それ自動クリーニング式、表面、部屋のための提案された解決策がZEITから起こる集めたPECVD装置の最適化および輸入取り替え、産業化および連続的な接客の確かな基盤を築いた科学技術の調節の多くの経験をある。
