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Grinding Polishing Quartz Photomask Substrate For FPD And Chip Use

FPD・チップ用石英フォトマスク基板 研削・研磨

  • ハイライト

    ZEIT FPDの水晶フォトマスク

    ,

    ZEIT FPDのフォトマスクの基質

    ,

    ZEIT FPDのフォトマスクの基質

  • 材料
    水晶
  • 出荷の言葉
    FEDEX、DHL、EMS、TNTなど
  • ブランド
    ツァイト
  • 起源
    中国、成都
  • 起源の場所
    中国、成都
  • ブランド名
    ZEIT
  • 証明
    Case by case
  • モデル番号
    バツ
  • 最小注文数量
    1個
  • 価格
    Case by case
  • パッケージの詳細
    木製ケース
  • 受渡し時間
    ケースバイケース
  • 支払条件
    T/T
  • 供給の能力
    ケースバイケース

FPD・チップ用石英フォトマスク基板 研削・研磨

FPDおよび破片の使用のための水晶フォトマスクの基質

 

 

アプリケーション領域

写真平版プロセスの分野、集積回路の破片の製造業のような、FPD (フラット パネル ディスプレイ)、

MEMS (マイクロ電子機械システム)、等。

 

働き主義

マスクはマイクロ ナノの製作の写真平版で一般的な写実的なマスターのマスクである。写実的な構造

不透明なフォトマスクによって透明な基質で形作られ、それから写実的な情報はに移る

露出プロセスによるプロダクト基質。

 

特徴

FPDの使用のためのフォトマスクの基質

モデル/材料 サイズ 工程能力
5280 / 水晶 800mmの× 520mm 、つくChromeめっき磨く粉砕
3035 / 水晶 350mmの× 300mm 、つくChromeめっき磨く粉砕
6インチ/水晶 152mmの× 152mm 、つくChromeめっき磨く粉砕
5インチ/水晶 127mmの× 127mm 、つくChromeめっき磨く粉砕

 

破片の使用のためのフォトマスクの基質

モデル/材料 サイズ 工程能力
5009 / 水晶 × 5インチの× 5インチの0.09インチ 、つくChromeめっき磨く粉砕
6012 / 水晶 × 6インチの× 6インチの0.12インチ 、つくChromeめっき磨く粉砕
6025 / 水晶 × 6インチの× 6inchesの0.25インチ 、つくChromeめっき磨く粉砕

 

 

 

 

 

 

 

プロセス フロー

→の原料の検出

→の荒い粉砕

→の荒い磨くこと

→のマスクのクリーニング

→の原料の性能の点検

→はクロムによってめっきした

→のマスクの性能試験

→の光硬化性樹脂のコーティング

→の包装

→の輸送

 

私達の利点

私達は製造業者である。

成長したプロセス。

24就業時間以内の応答。

 

私達のISOの証明

FPD・チップ用石英フォトマスク基板 研削・研磨 0

 

 

私達のパテントの部分
FPD・チップ用石英フォトマスク基板 研削・研磨 1FPD・チップ用石英フォトマスク基板 研削・研磨 2
 

私達の賞の部分およびR & Dの資格

FPD・チップ用石英フォトマスク基板 研削・研磨 3FPD・チップ用石英フォトマスク基板 研削・研磨 4