FPDの使用のための350mmの× 300mmの水晶フォトマスクの基質
適用
写真平版プロセスの分野、集積回路の破片の製造業のような、FPD （フラット パネル ディスプレイ）、
MEMS （マイクロ電子機械システム）、等。
働き主義
マスクはマイクロ ナノの製作の写真平版で一般的な写実的なマスターのマスクである。写実的な構造
不透明なフォトマスクによって透明な基質で形作られ、それから写実的な情報はに移る
露出プロセスによるプロダクト基質。
特徴
FPDの使用のためのフォトマスクの基質
| モデル/材料 | サイズ | 工程能力 |
| 3035 / 水晶 | 350mmの× 300mm | 、つくChromeめっき磨く粉砕 |
プロセス フロー
→の原料の検出;
→の荒い粉砕;
→の荒い磨くこと;
→のマスクのクリーニング;
→の原料の性能の点検;
→はクロムによってめっきした;
→のマスクの性能試験;
→の光硬化性樹脂のコーティング;
→の包装;
→の輸送。
私達の利点
私達は製造業者である。
成長したプロセス。
24就業時間以内の応答。
私達のISOの証明
私達のパテントの部分
私達の賞の部分およびR & Dの資格
