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Ф300mm Aperture Horizontal Laser Interferometer System For Dual Port Test System

Ф300mmの開きデュアル ポートの試験制度のための横のレーザーの干渉計システム

  • ハイライト

    300mmの開きレーザーの干渉計システム

    ,

    試験制度レーザーの干渉計システム

    ,

    横の構成レーザーの干渉計

  • 構造
    横の構成
  • 出荷の言葉
    海/空気/Multimodal輸送、FEDERAL EXPRESS、DHL、EMS、TNT、等によって
  • 保証期間
    1年または場合次第で
  • カスタマイズ可能
    利用できる
  • 起源の場所
    中国、成都
  • ブランド名
    ZEIT
  • 証明
    Case by case
  • モデル番号
    INF-HL-300
  • 最小注文数量
    1SET
  • 価格
    Case by case
  • パッケージの詳細
    木の場合
  • 受渡し時間
    ケースバイケース
  • 支払条件
    T/T
  • 供給の能力
    ケースバイケース

Ф300mmの開きデュアル ポートの試験制度のための横のレーザーの干渉計システム

Ф300mmの大きい開き横のレーザーの干渉計

 

 

アプリケーション領域

デュアル ポートの試験制度;
大きい開きの光学部品の測定の表面質のため;
材料の測定の光学同質性のため;
平行版の部品の多数の表面質を測定するため;
構成の表面の正確さの分析および光学日付の処理。

 

働き主義

2つの相互に垂直な干渉ラインを出すことによって(1つは注入のレーザ光線、他あるである

目的の表面でそれらを指す参照のレーザ光線) (平らな輪郭を測定するため)。そこに時

目的の表面の変動、間隔の変更が付いている注入のレーザ光線の転位はある、

両方のビームおよびレーザーの干渉のイメージを形作ることの相変化をもたらす。それから結合される

耳障りな定規または線形配列の走査器の援助を使うと、変数情報は得ることができる

目的の表面の形およびサイズのような。

 

特徴

    モデル INF-HL-300

明確な開き

Ф300mm
Phase-shiftingモード phase-shifting波長の調整

CCDの決断

1.2K*1.2Kピクセル
TF PVの≤ λ/20
組み合わせ精度 PVの≤ λ/15

システム反復性の正確さ

RMSの≤ λ/2000 (2σ)
注:利用できるカスタマイズされた生産。

                                                          

製品利便

→のデュアル ポートの試験制度および優秀な画像技術

作動し、使用すること容易な→の横の構成

解析システムを開ける→の波長の調整段階

 

私達の利点

私達は製造業者である。

私達はずっと中国の国民の科学技術の主要なプロジェクトを引き受けている。

私達は中国人のNationalMajorレーザー工学ずっとプロジェクトを引き受けている。

中国の光学社会のメンバー

レーザー及び光電子工学の進歩の次長の単位

戦略的提携の同盟をテストしている中国のメンバー

24就業時間以内の応答。

 

私達のISOの証明

Ф300mmの開きデュアル ポートの試験制度のための横のレーザーの干渉計システム 0

 

私達のパテントの部分
Ф300mmの開きデュアル ポートの試験制度のための横のレーザーの干渉計システム 1Ф300mmの開きデュアル ポートの試験制度のための横のレーザーの干渉計システム 2
 

私達の賞の部分およびR & Dの資格

Ф300mmの開きデュアル ポートの試験制度のための横のレーザーの干渉計システム 3Ф300mmの開きデュアル ポートの試験制度のための横のレーザーの干渉計システム 4