エネルギー産業の原子層の沈殿
適用
| 適用 | 特定の目的 |
| エネルギー | 結晶のシリコン太陽電池:不動態化の層/緩衝の層/透明な電極 |
| 染料感光性を与えられた細胞:写真陽極/充満組み変えのバリヤー層 | |
| 燃料電池:プロトン交換膜/陰極/電解物/触媒 | |
| リチウム イオン電池:nanostructureの陽極/陰極/電極によって変更されるコーティング | |
熱電材料 | |
| 電極の物質的な保護層 |
働き主義
原子層の沈殿の過程において4つのステップがある:
1. 基質の表面との吸着反作用を持つために基質に最初前駆物質のガスを注入しなさい。
2. フラッシュ不活性ガスが付いている残りのガス。
3. 基質で吸着される最初の前駆物質のガスとの化学反応を持つために第2前駆物質のガスを注入しなさい
surfacetoの形態のフィルム。
4. 余分なガスを洗い流すために不活性ガスを再度注入しなさい。
特徴
| モデル | ALD-E-X-X |
| コーティングのフィルム システム | AL2O3、TiO2、ZnO、等 |
| コーティングの温度較差 | 500℃への正常な温度（カスタマイズ可能な） |
| コーティングの真空槽のサイズ | 内部の直径:1200mmの高さ:500mm （カスタマイズ可能） |
| 真空槽の構造 | 顧客の要求に従って |
| 背景の真空 | <5>-7mbar |
| コーティング厚さ | ≥0.15nm |
| 厚み制御の精密 | ±0.1nm |
| コーティングのサイズ | 200×200mmの²/400×400mmの²/1200×1200 mmの²、等 |
| フィルム厚さの均等性 | ≤±0.5% |
| 前駆物質および搬送ガス | Trimethylaluminum、チタニウムの四塩化物、ジエチル亜鉛、純粋な水、 |
| 注:利用できるカスタマイズされた生産。 | |
コーティングのサンプル
プロセス ステップ
→は真空槽にコーティングのための基質を置く;
→ Vacuumize高低の温度の真空槽、および基質を同期的に回すため;
→は塗り始める:基質は前駆物質とそして同時反作用なしで順に連絡される;
→は各反作用の後で高純度窒素のガスとのそれを清浄にする;
基質フィルム厚さが標準的までだったおよび清浄になり、冷却の操作を回す→停止はある後
完了される、そして条件を壊す真空の後で基質を会われる取りなさい。
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