誘電体フィルム 光学コーティング装置 PVD ​​マグネトロン スパッタ成膜装置

誘電体は光学コーティング装置ArのN2 O2 PVDのマグネトロンの放出させる沈殿を撮影する

適用

特徴

プロセス ステップ

→は真空槽にコーティングのための基質を置く;

→は大体vacuumize;

→は分子ポンプで回ったり、全速力でvacuumize、そして回転および回転で回る;

温度がターゲットに達するまで真空槽を熱する→;

→は一定した温度調整を実行する;

→は要素をきれいにする;

→は起源に戻って回転し、;

プロセス条件に従う→のコーティングのフィルム;

→は低温を、コーティングの後でポンプ アセンブリを停止する;

→は自動操作が終了するとき働くことを止める。

コーティングのサンプル

働き主義

放出させるマグネトロンは一種の物理的な蒸気沈殿（PVD）である。それは螺線形の電子移動をする

従って磁気および電界間の相互作用によるターゲット表面の近くの道、増加

イオンを発生させるためにアルゴンのガスに当る電子の確率。発生させたイオンはそれからターゲット表面に当った

電界の行為の下および目標資料を基質の表面のdepositeの薄膜に放出させるため。

一般的な放出させる方法はさまざまな金属、強磁性半導体の準備に使用することができる

材料、また絶縁された酸化物、製陶術および他の物質。装置はPLC+の接触を使用する

プログラム可能なプロセス インターフェースによって変数を入れることができる機能のパネルHMIの制御システム

放出させ、multi-target順次に放出させ、そして共同放出させる単一ターゲットのような。

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