ALDの原子層の沈殿
適用
| 適用 | 特定の目的 | ALD材料のタイプ |
| MEMS装置 | バリヤー層のエッチング | Al2O3 |
| 保護層 | Al2O3 | |
| Anti-bonding層 | TiO2 | |
| 疎水性層 | Al2O3 | |
| 接着の層 | Al2O3 | |
| 耐久力のある層 | Al2O3、TiO2 | |
| 反短い回路の層 | Al2O3 | |
| 充満消滅の層 | ZnO:Al | |
| エレクトロルミネセンス表示 | 明るい層 | ZnS:Mn/えー |
| 不動態化の層 | Al2O3 | |
| 貯蔵材料 | Ferroelectric材料 | HfO2 |
| 常磁材料 | Gd2O3、えー2O3のDyの₂Oの₃、Ho2O3 | |
| 非磁気カップリング | Ru、Ir | |
| 電極 | 貴金属 | |
| 誘導結合（ICP） | 高kゲートの誘電性の層 | HfO2、TiO2、Ta2O5のZrOの₂ |
| 結晶のケイ素の太陽電池 | 表面不動態化 | Al2O3 |
| ペロプスカイトの薄膜電池 | 緩衝層 | ZnxMnyO |
| 透明な行なう層 | ZnO:Al | |
| 3D包装 | によケイ素Vias （TSVs） | CU、Ruの錫 |
| 明るい適用 | OLEDの不動態化の層 | Al2O3 |
| センサー | 不動態化の層、充填材 | Al2O3、SiO2 |
| 治療 | Biocompatible材料 | Al2O3、TiO2 |
| 腐食防止の層 | 表面の腐食防止の層 | Al2O3 |
| 燃料電池 | 触媒 | Pt、Pd、RH |
| リチウム電池 | 電極の物質的な保護層 | Al2O3 |
| ハード ディスクの読書きヘッド | 不動態化の層 | Al2O3 |
| 装飾的なコーティング | カラー フィルム、金属で処理されたフィルム | Al2O3、TiO2 |
| 反変色のコーティング | 貴金属のanti-oxidationのコーティング | Al2O3、TiO2 |
| 光学フィルム | ハイ・ローr.i. |
MgF2、SiO2、ZnS、TiO2、Ta2O5、 ZrO2、HfO2 |
働き主義
原子層の沈殿（ALD）はの基質の表面の物質を沈殿させる方法である
層単一の原子フィルムの層の形態。原子層の沈殿は共通の化学沈殿に類似している、
しかし原子層の沈殿の過程において、原子フィルムの新しい層の化学反応は直接ある
原子の1つの層だけ各反作用でこの方法により沈殿するように、前の層と関連付けられる。
特徴
| モデル | ALD1200-500 |
| コーティングのフィルム システム | AL2O3、TiO2、ZnO、等 |
| コーティングの温度較差 | 500℃への正常な温度（カスタマイズ可能な） |
| コーティングの真空槽のサイズ | 内部の直径:1200mmの高さ:500mm （カスタマイズ可能） |
| 真空槽の構造 | 顧客の要求に従って |
| 背景の真空 | <5> -7mbar |
| コーティング厚さ | ≥0.15nm |
| 厚み制御の精密 | ±0.1nm |
| コーティングのサイズ | 200×200mmの²/400×400mmの²/1200×1200 mmの²、等 |
| フィルム厚さの均等性 | ≤±0.5% |
| 前駆物質および搬送ガス |
Trimethylaluminum、チタニウムの四塩化物、ジエチル亜鉛、純粋な水、 窒素、等（Cの₃ Hの₉ Al、TiCl4、Cの₄ HZn、H2O、Nの₂、等） |
| 注:利用できるカスタマイズされた生産。 | |
コーティングのサンプル
プロセス ステップ
→は真空槽にコーティングのための基質を置く;
→ Vacuumize高低の温度の真空槽、および基質を同期的に回すため;
→は塗り始める:基質は前駆物質とそして同時反作用なしで順に連絡される;
→は各反作用の後で高純度窒素のガスとのそれを清浄にする;
フィルム厚さの後で基質を回す→停止は清浄になることの標準的なまで、操作である
冷却は完了したり、そして条件を壊す真空の後で基質を会う取る。
私達の利点
私達は製造業者である。
成長したプロセス。
24就業時間以内の応答。
私達のISOの証明
私達のパテントの部分
私達の賞の部分およびR & Dの資格
2018年に創設されるZEITのグループは精密光学、半導体材料およびハイテクな知性装置に焦点を合わせる会社である。中心およびスクリーンの精密、光学検出およびコーティング機械化の私達の利点に基づいてのZEITのグループはずっとカスタマイズされ、標準化されたプロダクト解決の完全なパッケージを私達の顧客に与えている。
技術革新に集中されて、ZEITのグループは2022年までに60以上の国内パテントがあり、協会、大学および産業連合の非常に近い企業大学研究の協同を世界的に確立した。革新を通して、自己所有の知的財産およびキー プロセス実験チーム、ZEITのグループを造り上げることはハイテク製品を孵化させるための開発の基盤および上限の人員のための訓練基地になった。
当社の製品は世界中で販売されています。当社の製品の全プロセスにご安心ください。
