医療産業におけるマグネトロンスパッタリング成膜
アプリケーション
| アプリケーション | 特定の目的 | 材料の種類 |
| 医療 | 生体適合性材料 | アル2〇3、TiO2 |
動作原理
マグネトロンスパッタリングの基本原理は、電子が飛来する過程でアルゴン原子に衝突することです。
の電界の作用下で基板、生成されたアルゴン イオンがターゲット表面に衝突します。エネルギーの後に
両替、ターゲット表面の原子は元の格子から脱出します基板に転写されます
膜を形成する表面。
特徴
| モデル | MSC-MT-X—X |
| コーティングタイプ | 金属膜、金属酸化物、AlNなどの各種誘電体膜 |
| 塗装温度範囲 | 常温～500℃ |
| 真空コーティングチャンバーsiぜ | 700mm * 750mm * 700mm (カスタマイズ可能) |
| バックグラウンド真空 | < 5×10-7mbar |
| コーティングの厚さ | ≧10nm |
| 厚み制御精度 | ≦±3% |
| 最大コーティングサイズ | ≥ 100mm (カスタマイズ可能) |
| 膜厚均一性 | ≦±0.5% |
| 基板キャリア | 遊星回転機構付 |
| 対象物質 | 4×4インチ（4インチ以下対応） |
| 電源 | DC、パルス、RF、IF、バイアスなどの電源はオプションです |
| プロセスガス | Ar、N2、O2 |
| 注: 利用できるカスタマイズされた生産。 | |
コーティングサンプル
プロセスステップ
→コーティング用の基板を真空チャンバーに入れます。
→おおまかに真空引き。
→分子ポンプをオンにし、最高速度で真空にし、公転と自転をオンにします。
→ 温度が目標に達するまで真空チャンバーを加熱します。
→一定の温度制御を実装します。
→きれいな要素;
→回転して原点に戻る。
→ プロセス要件に従ってフィルムをコーティングします。
→ 温度を下げ、コーティング後にポンプ アセンブリを停止します。
→自動操作が終了したら作業を停止します。
私たちの利点
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